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點腐蝕檢測哪家機(jī)構(gòu)正規(guī)

發(fā)布時間:2021-08-22 訪問量:640次 來源:隱石檢測
點腐蝕檢測哪家機(jī)構(gòu)正規(guī),工業(yè)的發(fā)展,自然需要質(zhì)量的保證,為此金屬檢測就成為一門深受工業(yè)界重視的學(xué)科。我們只有通過檢測吃透金屬的特性,才能制造出更高質(zhì)量的金屬制品,隨著現(xiàn)代檢測技術(shù)的不斷發(fā)展,各種新型的檢測技術(shù)也隨之被金屬腐蝕檢測挖掘而出。

點腐蝕檢測哪家機(jī)構(gòu)正規(guī)

σ相晶間沉淀理論:對于低碳高鉻高鉬不銹鋼,不存在鉻不良條件,但在650 ~ 850℃熱處理時,會形成42 ~ 48%的鉻σ相FeCr金屬間化合物。在過鈍化電位下,相腐蝕嚴(yán)重。陽極溶解電流急劇上升。σ可能是相本身的選擇性溶解。σ相FeCr金屬間化合物只能溶解在強(qiáng)氧化介質(zhì)中。因此,必須用65%的強(qiáng)氧化沸騰硝酸檢測這類腐蝕,使不銹鋼的腐蝕電位達(dá)到過鈍化區(qū)。


不銹鋼在酸性介質(zhì)中存在嚴(yán)重的晶間腐蝕。特別是在H2SO4或HNO3中加入Cu2 +、Hg2 +、Cr6 +等氧化離子可以增加陰極過程的電流密度。晶間陽極的溶解速度明顯加快。


晶間腐蝕的特點是當(dāng)金屬表面沒有損傷時,晶粒間的結(jié)合力和金屬的脆響已經(jīng)喪失。在嚴(yán)重的情況下,只要輕輕敲擊,它就會碎成粉末。


點腐蝕檢測哪家機(jī)構(gòu)正規(guī)

晶間腐蝕:金屬材料在特定腐蝕介質(zhì)中沿晶界發(fā)生的局部選擇性腐蝕。晶界是不同晶粒之間的邊界。由于晶粒有不同的取向,原子在結(jié)處的排列必須逐漸從一個取向轉(zhuǎn)變?yōu)榱硪粋€取向。因此,晶界實際上是一種“表面”不完整的結(jié)構(gòu)缺陷。由于晶格畸變的增加,晶界處原子的平均能量高于晶內(nèi)。較高的能量稱為晶界能。純金屬晶界在腐蝕介質(zhì)中的腐蝕速率比晶體的腐蝕速率快,這是因為晶界的能量高,原子處于不穩(wěn)定狀態(tài)。


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